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    高壓反應釜采用浸入式光源設計,物料與光源充分接觸
           高壓反應釜用于進行化學、高溫高壓下合成反應或催化反應時、需要同時測定壓力、溫度、測定轉速及添加惰性氣體保護,平定壓力和實現在線取樣或在線加料等條件下的實驗環境。
      適用于光化學高壓反應、二氧化碳CO2還原、二氧化碳CO2還原制甲醇,二氧化碳CO2還原制甲烷CH4、氮氧化物NOx的還原降解、甲醛的高壓光催化降解等領域。光催化反應,Fischer-Tropsch反應,加氫反應,聚合反應,均相反應及二氧化碳超臨界反應等。
      高壓反應釜技術特點:
      1、光源可按照客戶要求選擇,采用LCD10.1英寸液晶觸摸控制器,光源光電參數及光化學反應的溫度,攪拌等參數實時數字顯示在屏幕上。
      2、光源與釜體連接部分采用技術保證耐壓氣密性。
      3、更專業的光化學釜體生產工藝:釜體包含壓力表、防爆裝置、進氣閥門、取樣閥門,溫度測溫探桿,耐壓光源插入口等,在保證您的生產安全前提下更方便您的操作。
      4、采用浸入式光源設計,物料與光源充分接觸,光化學反應釜配備大功率攪拌電機帶動錨式攪拌槳,讓物料能均勻吸收光子能量。
      5、嵌入式一體加熱模塊結構,加熱更均勻。釜體、加熱器可完全分離。極大的方便了反應釜的拆卸工作,提高工作效率。
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